| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 946737-10G | 10 g | |
| 946737-50G | 50 g |
双（二甲基氨基）二甲基硅烷或BDMADMS是有机硅化合物和二叔胺，其表现为透明液体，主要用作前体材料，应用于薄膜沉积、工业化学、药物、LED制造是一种高纯度的硅前驱体，广泛应用于先进的半导体和材料领域，其纯度≥ 99.99%。我们的BDMADMS以微量金属为基础，并提供多种封装尺寸，专为满足电子制造和薄膜沉积的最苛刻要求而设计。BDMADMS被公认为可生产无缺陷、可靠的薄膜、先进的介电性能和坚固耐用的涂层，具有严格的杂质控制，适用于前沿电子和材料科学应用
- 双（二甲基氨基）二甲基硅烷或BDMADMS在用于合成SiCN薄膜的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）和原子层沉积（ALD）中用作前体，所述SiCN薄膜对于半导体器件中的介电层、阻挡层和硬掩模层是重要的。BDMADMS已经用作分子抑制剂以控制区域选择性ALD，这对于纳米电子学和3D器件结构中的高级图案化是有价值的。此外，它还可以作为前驱体用于原子层淀积法制备SiNxCy介质密封层，我们的Bis（二甲氨基）二甲基硅烷或BDMADMS，以≥ 99.99%的痕量金属计（99.99%-Si），适用于先进的薄膜技术、化学合成以及研究和工业中的高性能表面改性。
1.超高纯度BDMADMS（≥ 99.99%痕量金属，99.99%-Si）最大限度地减少了微电子和薄膜工艺的污染，确保了清洁、一致的器件制造。它能够精确地沉积碳氮化硅、氮化硅和氧化硅薄膜，2.低杂质（<100ppm）。与低温等离子体兼容-用于器件中硅基层的增强和热沉积方法
手套箱下无金属接触和手柄
| 英文名称 | Bis(dimethylamino)dimethylsilane or BDMADMS |
| CAS 号 | 3768-58-9 |
| 线性分子式 | [(CH3)2N]2Si(CH3)2 |
| 经验分子式 | C6H18N2Si |
| 分子量 | 146.31 |
| UNSPSC | 12352103 |
| MDL 号 | MFCD00008296 |
| InChI key | 库姆格瓦吉尔贝托-乌尔夫法伊萨-北 |
| SMILES字符串 | CN(C)[Si](C)(C)N(C)C |
| InChI | 1 S/C6 H18 N2 Si/C1-7（2）9（5，6）8（3）4/h1- 6 H3-六氢呋喃 |
| 蒸气密度 | >1（相对于空气） |
| 蒸气压 | 1毫米汞柱（20摄氏度） |
| 含量测定 | ≥98%（GC）; ≥99.99%痕量金属（基于GC） |
| 形态 | 液体 |
| 杂质 | ≤100 ppm痕量金属基准 |
| 折射率 | n20/D 1.417（照明） |
| 沸点 | 128-129 °C（照明） |
| 熔点 | −98°C（文献） |
| 溶解性 | 可溶（在水中水解） |
| 密度 | 在25 ℃（文献值）下为0.809克/毫升; 0.81克/毫升 |
| 阴离子痕迹 | 氯化物（Cl-）： |
| 阳离子痕量 | （32 种元素） |
| 质量等级 | 200 |
| 包装规格（货号 946737-10G） | — |
| 包装规格（货号 946737-50G） | — |
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