| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 946710-10G | 10 g | |
| 946710-50G | 50 g |
双二乙氨基硅烷或N，N，N ′，N ′-四乙基硅烷二胺，或BDEAS是一种有机硅化合物，外观为透明液体，主要用作化学中间体，是一种广泛用于先进半导体和材料应用的高纯硅前体。（二乙氨基）硅烷（BDEAS），纯度≥99.99%，以痕量金属计（使用99.99%-Si），适合作为用于半导体器件制造的原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺中的硅前体。
Bis(diethylamino)silane or N,N,N′,N′-Tetraethylsilanediamine, or BDEAS can be used
- Bis(diethylamino)silane or BDEAS is commonly used to deposit silicon oxide (SiO₂) and silicon nitride (SiNx) films on semiconductor wafers via ALD and CVD. These films serve as insulating layers, passivation layers, and dielectric materials in microelectronics.[,]
-Bis(diethylamino)silane or BDEAS enables low-k dielectric deposition and is important in advanced integrated circuits, including 3D ICs and advanced chip packaging, because of its capacity for ultra-high purity and selective film growth.[]
1.高纯度（≥ 99.99%痕量金属，99.99%-Si）最大限度地减少金属污染，这对半导体工艺和先进器件至关重要2.二乙氨基配体的热稳定性和反应性平衡，允许宽工艺温度窗口3.低杂质（4）与氧化硅（SiO2）、氮化硅（SiNx）、碳氮化硅（SiCN）的热ALD/CVD工艺和等离子体增强ALD/CVD工艺兼容
| 英文名称 | Bis(diethylamino)silane,BDEAS |
| CAS 号 | 27804-64-4 |
| 线性分子式 | SiH2[N(CH2CH3)2]2 |
| UNSPSC | 12352103 |
| MDL 号 | MFCD19105220 |
| SMILES字符串 | CCN(CC)[SiH2]N(CC)CC |
| InChI | 1S/C8H22N2Si/c1-5-9（6-2）11-10（7-3）8-4/h5-8，11H2，1-4H3 |
| 含量测定 | ≥98%（qNMR）；≥99.99% 微量金属基准 |
| 形态 | 液体 |
| 杂质 | ≤100 ppm痕量金属基准 |
| 沸点 | 70 °C |
| 熔点 | -10 °C |
| 溶解性 | 可溶性（在水中不混溶或难以混合） |
| 密度 | 0.786 g/mL（文献值） |
| 阴离子痕迹 | 氯化物（Cl-）： |
| 阳离子痕量 | （32 种元素） |
| 质量等级 | 200 |
| 包装规格（货号 946710-10G） | — |
| 包装规格（货号 946710-50G） | — |
