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Sigma-Aldrich 甲氧基锑,≥99.9% 微量金属基准

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Sigma-Aldrich 甲氧基锑,≥99.9% 微量金属基准

Sigma-Aldrich Antimony(III) methoxide,≥99.9% trace metals basis
SIGMA-ALDRICH授权代理沉积前驱体
CAS 号 29671-18-9品牌 Sigma-Aldrich类目 实验室试剂 / 沉积前驱体更新日期 2026-10-26

规格与货号

货号包装规格操作
947024-50G50 g

产品概述

甲醇锑(III)(trimethoxystibine,trimethoxystibine)是一种无色至白色结晶粉末的金属醇盐。作为一种强刘易斯酸物种,它在配位化学、有机合成和材料研究中非常有用,在这些领域它可以作为含锑化合物和功能无机材料的前体。以痕量金属计,纯度≥99.9%,该产品为高级研究和精密应用提供了高度可靠、低污染的锑源。

应用领域

甲醇锑(III)(Sb(OMe)3)是一种有价值的高挥发性前驱体,可用于ALD和CVD工艺中氧化锑薄膜的可控沉积。其形成稳定络合物和清晰的SbO层的能力使其在微电子、光学涂层和阻燃系统中具有吸引力。基于痕量金属,我们的Sb(OMe)3纯度水平≥99.9%,可最大限度地减少金属污染。帮助研究人员在有机合成和中间体制备中获得可再现的膜性质和可靠的催化性能。

产品特点

High‑purity antimony(III) methoxide (≥99.9% trace metals basis) offers several important advantages:


[1] Ensures that ALD/CVD‑derived SbOₓ films have low defect densities and stable electrical/optical properties, since unwanted metal dopants are minimized.


[2] Reduces variability between batches, giving more reproducible growth rates, film composition, and device performance in microelectronics and optical coatings.


[3] Lowers the risk of side reactions and particle formation during processing, helping to keep reactors cleaner and extend maintenance intervals.


[4] Improves reliability of catalytic and organic synthesis applications, where trace metal impurities can poison catalysts or introduce difficult‑to-remove by‑products.

技术规格

英文名称Antimony(III) methoxide
CAS 号29671-18-9
线性分子式三乙氧基锑
经验分子式C3H9O3Sb
分子量214.86
UNSPSC12352103
MDL 号MFCD00014882
InChI key科伊格克考恩特-乌夫法奥萨-北
InChI1S/3CH3O.Sb/c3 * 1 - 2;/h3 * 1H3;/q3 *-1;+3
SMILES字符串CO[Sb](OC)OC
含量测定以碘(I)计(滴定法); ≥99.9%痕量金属(以ICP-Mass/ICP-OES计); ≥99.9%痕量金属(以ICP-Mass/ICP-OES计)
形态粉末
颜色无色至白色
熔点 123-127 °C(光照); 123-127 °C
应用半导体
质量等级200
杂质痕量 ≤1000 ppm(以金属为基础)
包装规格(货号 947024-50G)—

常见问题

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