| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 667498-500ML | 500 mL |
钨腐蚀剂是一种基于氢氧化钾和铁氰化钾溶液的混合物，可通过将基底浸入蚀刻溶液中而有助于将钨和铝等材料进行去除。
半导体和微电子技术中钨薄膜金属化的选择性蚀刻剂。蚀刻剂是缓冲式、温和碱性铁氰化物配方，提供高分辨率图案，具有最小切割和光刻胶兼容性。蚀刻剂可直接使用（不需要稀释）。可控、均匀蚀刻是通过浸渍或喷雾蚀刻技术实现的。蚀刻能力（速率在∼70%时下降）为64 g/加仑。建议工作温度：20-80 °C（30-40 °C最常用）
1.根据下表选择蚀刻方法蚀刻速率（浸入） 蚀刻速率（喷雾）
20°C = 30 Å/秒30°C = 140 Å/秒 20°C = 80 Å/秒60°C = 250 Å/秒
2.用去离子水冲洗
| 英文名称 | Tungsten etchant |
| UNSPSC | 12352300 |
| NACRES | NA.23 |
| MDL 号 | MFCD08705365 |
| 质量等级 | 100 |
| 包装规格（货号 667498-500ML） | 500 mL |
