| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 455199-25G | 25 g |
四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物，由中心的铪原子（Hf） 和周围的四个二甲基氨基配体（NMe2）组成。通常用作CVD/ALD前=体， 生产高质量的Hf薄膜 。它是一种低熔点 固体。
四(二甲基氨基)铪(IV)可用于：作为原子层沉积（ALD）前驱体，沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)3]前驱体和H2O，通过ALD法在Ge衬底上制备HfO2、CeO2和Ce掺杂HfO2薄膜。在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf3N4薄膜。
纯度：锆含量低于 ~2000ppm。
| 英文名称 | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) |
| CAS 号 | 19782-68-4 |
| 线性分子式 | [(CH3)2N]4Hf |
| 经验分子式 | C8H24HfN4 |
| 分子量 | 354.79 |
| NACRES | NA.23 |
| UNSPSC | 12352103 |
| MDL 号 | MFCD01862473 |
| InChI | 1 S/4C 2 H6 N.铪/c4*1-3-2;/h4*1- 2 H3;/q4*-1;+4 |
| SMILES字符串 | CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C |
| InChI key | ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N |
| 含量测定 | ≥99.99% |
| 形态 | 低熔点固体 |
| 反应适用性 | 核心：铪 |
| 熔点 | 26-29 °C（照明） |
| 密度 | 25 °C时为1.098 g/mL |
| 质量等级 | 100 |
| 包装规格（货号 455199-25G） | 25 g |
