| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 553123-5ML | 5 mL | |
| 553123-25ML | 25 mL |
四双（乙基甲基氨）铪（IV）（TEMAH）是一种对水和空气敏感的无色液体。它在 -50 °C 结冰，在 0.1 托下，在 78 °C左右沸腾。
TEMAH 被用作氧化铪（HfO2）薄膜的原子层沉积（ALD）的前体。因为 HfO2 具有 16-25 的高介电常数，所以它通常用作半导体制造中的介电膜。
TEMAH 由于其低沸点以及与水和臭氧的反应性，是 ALD 的理想选择。最重要的是，它在包括玻璃、氧化铟锡（ITO）和硅（100）在内的许多基板上的吸附是自限制的。研究人员还用它在 MoS2等二维材料上沉积 HfO2薄膜。PMID 23683268
PMID 23683268
TEMAH 也是在MoS2光电晶体管上合成铁电铪-氧化锆和Hf1-xZrxO2薄膜的有用前体。PMID 31900395研究人员还通过 ALD 交替脉冲 TEMAH 和氨沉积了氮化铪（Hf3N4）薄膜。
热稳定性。它具有足够的挥发性，适合用于气相沉积。完全自我限制的表面反应。
| 英文名称 | Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) |
| CAS 号 | 352535-01-4 |
| 线性分子式 | [(CH3)(C2H5)N]4Hf |
| 经验分子式 | C12H32HfN4 |
| 分子量 | 410.90 |
| NACRES | NA.23 |
| UNSPSC | 12352103 |
| MDL 号 | MFCD03427130 |
| InChI | 1S/4C3H8N. Hf/c4 * 1 - 3 - 4 - 2;/h4 * 3H2，1 - 2H3;/q4 *-1;+4 |
| SMILES字符串 | CCN(C)[Hf](N(C)CC)(N(C)CC)N(C)CC |
| InChI key | NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N |
| 含量测定 | ≥ 99.99%痕量金属基准 |
| 质量等级 | 200 |
| 反应适用性 | 核心：铪 |
| 杂质 | 纯度不包括约2000 ppm锆 |
| 沸点 | 78 °C/0.01 mmHg（亮） |
| 熔点 | <-50 °C |
| 密度 | 1.324 g/mL，25 °C（lit.） |
| 包装规格（货号 553123-5ML） | 5 mL |
| 包装规格（货号 553123-25ML） | 25 mL |
