| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 697478-5G | 5 g |
99.9%痕量金属基础
通过原子层沉积（ALD）的薄膜沉积 原子层蚀刻。用于晶体管和其他集成电路元件。
| 英文名称 | Tin(II) acetylacetonate |
| CAS 号 | 16009-86-2 |
| 线性分子式 | 锡（C5 H7 O2）2 |
| 经验分子式 | C10H14O4Sn |
| 分子量 | 316.93 |
| NACRES | NA.23 |
| UNSPSC | 12352103 |
| EC 号 | 240-142-2 |
| MDL 号 | MFCD00078005 |
| InChI key | XDRPDDZWXGILRT-FDGPNNRMSA-L |
| InChI | 1S/2C5H8O2.Sn/c2*1-4（6）3-5（2）7;/h2*3，6H，1-2H3;/q;;+2/p-2/b2*4-3-; |
| SMILES字符串 | CC(=O)\C=C(\C)O[SnH2]O\C(C)=C/C(C)=O |
| 含量测定 | 99.9%痕量金属基础 |
| 形态 | 液体 |
| 反应适用性 | 核心：锡 |
| 沸点 | 110 °C/0.1 mmHg |
| 质量等级 | 100 |
| 包装规格（货号 697478-5G） | 5 g |
