Sigma-Aldrich 铬蚀刻剂，标准

产品概述

铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。

外观- 橙色透明pH - 酸性40 °C下蚀刻速度 - 40 Å/秒蚀刻能力（ ~70%速度下降) - 65 克/加仑保质期- 1 年储存条件 - 室温过滤 - 0.2 µm推荐操作温度 - 20-80 °C （30-40 °C 最常见）冲洗 - 去离子水r光致抗蚀剂建议 - KLT6000 系列、KLT 5300 系列、HARE SQT （SU-8型）、 TRANSIST或PKP -308PI相容的材料 - 金、钛、氧化物、氮化物、硅不相容的材料 - 铝、镍、铜、镍铬合金相容的塑料 - HDPE、PP、PTFE、PFA、PVC各向同性- 具有各向同性不相容的化学品- 强碱

我们的铬蚀刻剂是一种高纯度硝酸铈铵系统，用于铬和氧化铬薄膜精确、洁净的蚀刻。兼容阳性和阴性光致抗蚀剂。我们的铬蚀刻剂通过过滤去除了0.2 微米以上的所有颗粒。 蚀刻温度因薄膜厚度不同而不同。室温下蚀刻时间在15秒至60秒之间。铬蚀刻剂应在通风橱中操作。

硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。

应用领域

该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN，但对Si₃N₄, SiO₂, Ti, 和 W表面没有影响

用于室温或高温条件。蚀刻干净，省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意，应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。

产品特点

设计用于铬和氧化铬薄膜的精确、清洁蚀刻。与正性和负性光致抗蚀剂均可相容。经 0.2 微米孔过器过滤以去除微粒。

技术规格