Sigma-Aldrich 单层石墨烯薄膜，10 cm x 10 cm铜箔，平均层数，1

产品概述

石墨烯薄膜.生长方法：CVD合成。外观：透明胶片。透明度：> 97%。覆盖率：> 95%。石墨烯层数：1.厚度（理论）：0.345 nm。Al2O3上的FET电子迁移率：2000 cm2/Vs。SiO2/Si上的霍尔电子迁移率：4000 cm2/Vs。SiO2/Si上的薄层电阻：450 ± 40 Ω/sq。（1cm x 1cm）。晶粒尺寸：最大10 μ m。基底：铜箔。厚度：18 μ m。该产品是预铜背面上的单层石墨烯被部分去除，但不是完全去除，因此需要额外的处理，如RIE以完全去除底层。

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应用领域

柔性电池。电子学。航空航天工业。MEMS和NEMS。微致动器。导电涂层。

技术规格