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Sigma-Aldrich R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer,直径6,CVD硅片,大颗粒,平均层数,1

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Sigma-Aldrich R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer,直径6,CVD硅片,大颗粒,平均层数,1

Sigma-Aldrich R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer,6 in diameter, CVD on silicon wafer, large grain, avg. no. of layers, 1
SIGMA-ALDRICH授权代理纳米材料
CAS 号 1034343-98-0品牌 Sigma-Aldrich类目 实验室试剂 / 纳米材料更新日期 2026-10-27

规格与货号

货号包装规格操作
920134-1EA1 ea

产品概述

在6英寸硅片上的卷对卷、高质量、单层CVD石墨烯,具有大晶粒尺寸(~110μm^2)。

应用领域

我们的卷对卷CVD石墨烯产品是真正的单层高品质石墨烯,在洁净室内制造,严格监控和QC,以确保高重现性。卷对卷工艺允许连续,大规模石墨烯生产PMID 30277604。这种硅晶片上的大粒度石墨烯产品随时可用,帮助您最大限度地缩短工艺时间,这种具有低薄层电阻的产品将实现无与伦比的再现性,并为基于CVD石墨烯的FET PMID 31114067、基于CVD石墨烯的传感器和基于异质结构的微/纳米电子器件PMID 29182852提供高性能。超快晶体管光学器件生物/气体传感器透明电极柔性显示器智能涂层热管理

制备/使用说明

避免阳光直射,避免高温,避免高湿度,避免灰尘。

技术规格

英文名称R2R Monolayer large grain CVD graphene on silicon wafer
CAS 号1034343-98-0
经验分子式C
分子量12.01
MDL 号MFCD00146977
UNSPSC12141908
NACRESNA.23
SMILES字符串NC.NC.NC.NC.NC.NC.NC.NC.NC
InChI1S/9CH5N/c9*1-2/h9*2H2,1H3
InChI keyDXIFQVRACSPGSU-UHFFFAOYSA-N
描述生长方式:卷对卷CVD晶圆:SiO2(300 nm)Si层数:单层拉曼强度2D/G:≥ 1. 5
特征平均层数1
薄层电阻280 Ω/sq ± 10%
尺寸 110 μm × 110 μm ± 10%,粒度
表面覆盖率表面覆盖率> 98%
透射率>97%
半导体性质(迁移率> 3000 cm2/V·s)(霍尔效应测量)
质量等级100
包装规格(货号 920134-1EA)1 ea

常见问题

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