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Sigma-Aldrich 六羰基钨,99.99%痕量金属(不包括Mo),通过升华纯化

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Sigma-Aldrich 六羰基钨,99.99%痕量金属(不包括Mo),通过升华纯化

Sigma-Aldrich Tungsten hexacarbonyl,99.99% trace metals basis (excluding Mo), purified by sublimation
SIGMA-ALDRICH授权代理催化剂
CAS 号 14040-11-0品牌 Sigma-Aldrich类目 实验室试剂 / 催化剂更新日期 2026-10-27

规格与货号

货号包装规格操作
472956-5G5 g
472956-25G25 g

产品概述

基材原子序数:74钨

六羰基钨是一种有机金属化合物,外观为白色结晶固体,易挥发,在惰性环境中稳定,不溶于水,但易溶于非极性有机溶剂,主要用于有机金属化学和材料科学,特别是用于化学气相沉积(CVD)沉积钨薄膜。

应用领域

用于制备含钨络合物或纳米材料的前体。也可用于光化学

通过 6-endo 方式或柯普重排反应,用作硅氧基三烯的光化学环化中的催化剂。

六羰基钨作为还原剂用于合成均匀的单一和二元金属纳米颗粒,用于催化,电子和材料科学。形状导向剂在非球形镍纳米晶体的低温合成,能够控制形成具有室温铁磁特性的五重孪晶纳米棒和纳米立方体。在碳纳米管上合成铼-钨(Re-W)纳米颗粒的有机化学气相沉积前体在WO 3薄膜的气溶胶辅助化学气相沉积中,使得能够制造在室温下对氨检测具有高灵敏度和稳定性的混合异质结气体传感器。在电子束诱导沉积(EBID)中产生含金属纳米结构的前体。作为烯烃复分解和配体取代反应中催化剂的前体。它通常用于有机金属合成,因为一个或多个CO配体可以被其他供体配体取代。

产品特点

微量金属纯度99.99%,确保最佳性能。前体中的低杂质(≤ 150.0 ppm)可最大限度地减少合成材料晶体结构中的缺陷,提高性能和稳定性,并形成均匀的WO 3薄膜。低金属含量(如Na,Zr,Cd,Cu等)可减少催化过程中的位点反应,提高产率。

技术规格

英文名称Tungsten hexacarbonyl
CAS 号14040-11-0
线性分子式W(CO)6
经验分子式C6O6W
分子量351.90
NACRESNA.23
UNSPSC12352103
EC 号237-880-2
MDL 号MFCD00011462
InChI keyNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N
InChI1S/6CO.W/c6*1-2;
SMILES字符串[W].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+]
蒸气密度12.1(与空气相比)
蒸气压1.2 mmHg(67 °C)
含量测定99.99%微量金属(不包括钼)
形态固体
净化方式升华
反应适用性核:钨;试剂类型:催化剂
熔点 150 ° C(照明)
密度2.65 g/mL,25 ℃(文献值)
质量等级200
包装规格(货号 472956-5G)5 g
包装规格(货号 472956-25G)25 g

常见问题

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