| 货号 | 包装规格 | 操作 |
|---|---|---|
| 767484-1EA | 1 ea |
溅射靶，直径×厚度2.00 in. × 0.25 in.，99.95%痕量金属基
溅射是一种利用高能粒子轰击靶而使原子从固体靶材中喷射出来的过程。半导体和电子工业中的组件的极度小型化需要高纯度的溅射靶来进行薄膜沉积。
| 英文名称 | Nickel |
| CAS 号 | 7440-02-0 |
| 线性分子式 | Ni |
| 经验分子式 | Ni |
| 分子量 | 58.69 |
| NACRES | NA.23 |
| UNSPSC | 11101706 |
| EC 号 | 231-111-4 |
| MDL 号 | MFCD00011137 |
| InChI key | PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-北北 |
| InChI | 1 S/镍 |
| SMILES字符串 | [Ni] |
| 含量测定 | 99.95%痕量金属 |
| 形态 | 固体 |
| 反应适用性 | 核心：镍 |
| 电阻率 | 6.97μΩ-cm，20°C |
| 直径×厚度 | 2.00英寸× 0.25英寸 |
| 沸点 | 2732 °C（照明） |
| 熔点 | 1453 °C（照明） |
| 密度 | 8.9 g/mL，25 ℃（文献值） |
| 质量等级 | 100 |
| 包装规格（货号 767484-1EA） | 1 ea |
