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Sigma-Aldrich 三甲基镓,用于沉积系统的包装

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Sigma-Aldrich 三甲基镓,用于沉积系统的包装

Sigma-Aldrich Trimethylgallium,packaged for use in deposition systems
SIGMA-ALDRICH授权代理沉积前驱体
CAS 号 1445-79-0品牌 Sigma-Aldrich类目 实验室试剂 / 沉积前驱体更新日期 2026-10-26

规格与货号

货号包装规格操作
730734-10G10 g

产品概述

三甲基镓(TMGa)(Ga(CH 3)3)是一种高纯度的(99.9999%)、无色、可自燃的有机金属化合物,广泛用作半导体制造中金属有机化学气相沉积(MOCVD)的关键前驱体。其高挥发性和金属有机反应性使其在光电子学、光电子学、TMGa的超低杂质水平确保了LED、激光二极管和高电子迁移率晶体管(HEMT)等应用的性能一致性。最近的进展还将其作用扩展到量子点合成和光子集成电路,以实现节能和物联网技术。

应用领域

三甲基镓可用作:一种合成用于高功率电子器件的β-氧化镓(β-Ga xO xO xO xO)薄膜的前体,提供上级击穿电压和热稳定性。一种用于蓝色LED和激光二极管中氮化镓(GaN)外延生长的前体,实现高亮度显示器和光通信系统。胶体量子点合成中的一种组件,用于可调谐近红外线,生物医学成像和电信中的红外LED。高电子迁移率晶体管(HEMT)中砷化镓(GaAs)层的源材料,对5G毫米波放大器至关重要。

技术规格

英文名称Trimethylgallium
CAS 号1445-79-0
线性分子式镓(CH 3)3
经验分子式C3H9Ga
分子量114.83
NACRESNA.23
UNSPSC12352103
EC 号215-897-6
MDL 号MFCD00014841
InChI keyXCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
InChI1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
SMILES字符串C[Ga](C)C
质量等级100
形态液体
反应适用性核心:镓
沸点92.5°C/760 mmHg(点燃)
熔点 -15.8 °C(lit.)
密度25 °C时为1.132 g/mL
包装规格(货号 730734-10G)10 g

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