01 产业之痛：痕量杂质，巨大影响

材料纯度，是前沿产业的"命门"

• 半导体行业：高纯铝是溅射靶材核心，用于制造金属互连层。极微量铁（Fe）、铜（Cu）等杂质，可能导致电路短路或性能不稳定，直接影响纳米级制程良率。
• 锂电行业：高纯铝箔是锂电池正极集流体关键材料。杂质会破坏铝箔表面钝化膜，加剧电解液腐蚀，导致内阻增大、循环寿命缩短，甚至引发安全问题。
• 光伏行业：高纯铝用于制备背场电极。杂质元素会成为载流子复合中心，降低光电转换效率，直接影响发电成本。

这些行业对材料纯度的极致追求，对分析检测技术提出了前所未有的挑战。

02 性能之核：PQ 9200 的精准之道

面对"基体复杂、含量极低"的分析难题

高纯材料中"基体复杂、含量极低"的分析难题，PlasmaQuant 9200 凭借硬核性能确保数据准确可靠。以下数据据耶拿官方测试 / 发布：

• 超低检出限：通过优化射频功率（1200 W）并采用灵敏度更高的轴向观测模式，对 Cd 检出限低至 0.0108 mg/kg、Cr 为 0.0356 mg/kg，轻松满足 5N（99.999%）及以上纯度铝的分析要求。
• 卓越抗干扰：高浓度铝基体会产生强烈光谱干扰。PQ 9200 高分辨率光学系统能有效分离杂质元素谱线与基体谱线，结合动态背景扣除技术，在复杂基体中也能精准定量。
• 灵活观测模式：支持轴向、径向两种观测。易受干扰元素（如 Fe）选径向以抑制基体效应；需超高灵敏度的痕量元素（如 Cd、Cr）选轴向，实现性能与稳定性最佳平衡。

03 数据为证：4N vs 5N，精准区分

同一台仪器，看清纯度等级的巨大差异

为验证性能，耶拿对 4N（99.99%） 与 5N（99.999%） 两种纯度高纯铝样品进行对比测试（数据据耶拿官方发布）。结果清晰展示仪器精准区分不同纯度等级的能力。

可见 PQ 9200 不仅能准确测定含量较高的杂质（如 Fe、Cu），更能清晰分辨出 5N 铝中含量极低的 Ba——相比 4N 铝降低近 100 倍，精准反映材料纯度的巨大差异。

图谱层面，5N 高纯铝中钒（V）在 292.464 nm 处的特征峰依然尖锐、对称，基线平稳、信噪比极高，充分证明仪器在复杂基体下出色的分辨能力与检测稳定性。

04 为什么选耶拿 / 恒奇

技术领先，本地响应快

• 技术领先：PQ 9200 以高分辨率光学系统 + 轴向/径向双观测 + 动态背景扣除，专克高纯材料"基体复杂、含量极低"的痕量分析难题。
• 全链条保障：从芯片的纳米电路到电池的能量核心，PQ 9200 为半导体、锂电、光伏等前沿产业的高纯材料质量控制提供坚实保障。
• 本地化服务：上海恒奇作为耶拿授权经销商，常备货、响应快，可配合提供实验室配套支持与售后保障。